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电子级三氟化氮
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NF3气体在高能化学激光、电子工业(IC)以及太阳能光电工业等方面具有很是普遍的应用。。。。。。现在,,昊华气体拥有一条年产2000吨的NF3生产线,,其生产工艺、装备均处于海内领先职位。。。。。。
产品特征
NF3在室温顺大气压力下是无色、稳固和有毒的气体。。。。。。相对分子质量为71.002,,沸点为-129.06℃。。。。。。
应用说明
三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体,,在离子蚀刻时裂解为活性氟离子,,这些氟离子对硅和钨化合物,,高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性(对氧化硅和硅),,它在蚀刻时,,在蚀刻物外貌不留任何残留物,,是很是优异的洗濯剂。。。。。。
应用领域
电子电器
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